公开/公告号CN113231957A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-08-10
原文格式PDF
申请/专利权人 金华博蓝特电子材料有限公司;
申请/专利号CN202110476836.9
申请日2021-04-29
分类号B24B37/08(20120101);B24B37/28(20120101);B24B37/34(20120101);B24B47/12(20060101);H01L21/304(20060101);
代理机构11619 北京辰权知识产权代理有限公司;
代理人佟林松
地址 321000 浙江省金华市婺城区秋滨街道南二环西路2688号1#厂房1楼南侧
入库时间 2023-06-19 12:11:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-04-08
著录事项变更 IPC(主分类):B24B37/08 专利申请号:2021104768369 变更事项:申请人 变更前:金华博蓝特电子材料有限公司 变更后:金华博蓝特新材料有限公司 变更事项:地址 变更前:321000 浙江省金华市婺城区秋滨街道南二环西路2688号1#厂房1楼南侧 变更后:321000 浙江省金华市婺城区秋滨街道南二环西路2688号1#厂房1楼南侧
著录事项变更
机译: 半导体晶片厚度的测量方法及半导体晶片双面研磨设备
机译: 半导体晶片的双面研磨的设备和方法
机译: 作为用于双面研磨设备的载体,在其中保留孔以保持半导体晶片的