公开/公告号CN113050381A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-29
原文格式PDF
申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;
申请/专利号CN201911382714.2
申请日2019-12-27
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构31295 上海思捷知识产权代理有限公司;
代理人王宏婧
地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号
入库时间 2023-06-19 11:40:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-04-26
授权
发明专利权授予
机译: 一种利用电子束曝光设备防止曝光过程拼接误差的方法
机译: 一种利用电子束曝光设备防止曝光过程拼接误差的方法
机译: 适用于形成图案的重复性曝光的投影曝光设备,一种使用其的投影曝光方法,一种制造曝光成员的方法以及一种包括曝光模式列的半导体装置