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一种拼接物镜的剂量控制装置、方法和曝光设备

摘要

本发明提供了一种拼接物镜的剂量控制装置、方法和曝光设备,拼接物镜的剂量控制装置用于曝光设备,包括控制单元和至少一个具有透光狭缝的遮光挡板,遮光挡板活动设置于所述曝光设备上,沿光路传播方向,遮光挡板设置于曝光光源和拼接物镜之间,拼接物镜包括若干个子物镜;控制单元与遮光挡板连接,用于控制遮光挡板的移动速度和位置,能够使同列排布的拼接物镜的光束同时通过或同时被遮挡。本发明提供拼接物镜的剂量控制装置、方法和曝光设备,能够控制拼接物镜的子物镜或多个拼接物镜的曝光时间完全一致,从而能够精准控制曝光剂量,提升曝光效果。

著录项

  • 公开/公告号CN113050381A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;

    申请/专利号CN201911382714.2

  • 发明设计人 吴卫军;牛飞龙;

    申请日2019-12-27

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构31295 上海思捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人王宏婧

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2023-06-19 11:40:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-26

    授权

    发明专利权授予

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