首页> 中国专利> 用于近场聚焦和波束形成的装置

用于近场聚焦和波束形成的装置

摘要

公开了一种光学透明装置(100),其包括具有折射率n2的介电材料的主体部分(10),所述装置被配置用于当所述装置被嵌入到具有比所述折射率n2低的折射率n1的介电材料中时,根据偶然照射所述装置的电磁波在所述装置的近区中形成场强分布。所述装置(100)进一步包括具有比所述折射率n2高的折射率n3的介电材料的至少一个插入件(11),所述至少一个插入件被至少部分地插入所述主体部分中,所述折射率n1不同于所述折射率n3,并且其中公式(I),W2是所述插入件的半宽并且公式(II),并且公式(III),W1是所述主体部分的半宽并且公式(IV),λ是在所述具有折射率n1的所述介电材料中传播的所述电磁波的波长。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-11-03

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号