一种固结磨料抛光垫及易潮解KDP晶体干式抛光方法

摘要

本发明公开一种固结磨料抛光垫及易潮解KDP晶体干式抛光方法，抛光方法为采用固结磨料抛光垫抛光KDP晶体、不使用液体抛光介质的干式固结磨料抛光，固结磨料抛光垫包含有磨粒、反应物、催化剂、固化剂和结合剂。抛光垫中反应物与KDP晶体发生固相化学反应，生成的过渡层在磨粒的机械作用下被去除，获得光滑表面。本发明解决了KDP晶体易潮解的问题，提高了KDP晶体的加工效率，简化了KDP晶体抛光工艺，同时还有环境友好，成本低等优点。