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一种基于非邻近色块的陷印区优化方法及装置

摘要

本发明涉及基于非邻近色块的陷印区优化方法及装置,其方法包括如下步骤:获取图稿的色块和色块边界;根据所述色块和色块边界确定各色块之间的陷印边界;确定每个陷印边界的陷印方向;根据陷印方向确定每个陷印边界的进入色块、被进入色块及其邻接色块;根据所述被进入色块及其邻接色块的颜色和陷印条件判断是否对所述被进入色块及其邻接色块进行融合;根据进入色块和融合后的被进入色块生成陷印区。本发明通过被进入色块及其邻接色块的颜色和陷印条件来判断非邻接的陷印区,通过融合的方法消除了陷印缺口,使得陷印的效果更加美观。

著录项

  • 公开/公告号CN112967250A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 方正株式(武汉)科技开发有限公司;

    申请/专利号CN202110237299.2

  • 发明设计人 郭海;

    申请日2021-03-03

  • 分类号G06T7/00(20170101);G06T7/13(20170101);G06T7/136(20170101);G06T7/90(20170101);

  • 代理机构42242 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人廉海涛

  • 地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区东信路数码港E幢二层2256、2266-56室

  • 入库时间 2023-06-19 11:26:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-28

    授权

    发明专利权授予

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