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公开/公告号CN112847103A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-28
原文格式PDF
申请/专利权人 吴平;
申请/专利号CN202110020255.4
发明设计人 吴平;
申请日2021-01-07
分类号B24B29/02(20060101);B24B27/00(20060101);B24B41/06(20120101);B24B47/12(20060101);B24B47/16(20060101);
代理机构
代理人
地址 246001 安徽省安庆市宜秀区老峰镇和平村联合组6-1号
入库时间 2023-06-19 11:09:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-08-12
发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):B24B29/02 专利申请号:2021100202554 申请公布日:20210528
发明专利申请公布后的撤回
机译: 使用具有不均匀强度的抛光表面进行化学机械抛光的装置和方法
机译: 一种在抛光机上使用抛光带的经济装置。
机译: 易于使用的机械零件抛光装置
机译:超声波辅助微抛光进行非球面抛光-台式微非球面抛光装置的原型以及微非球面抛光可能性的验证
机译:通过超声波负载的微抛光方法验证原型抛光方法的非球面抛光桌面微散抛光装置的原型
机译:铝磁盘基板超高压/超高速抛光的抛光寿命检查(第二次报告):抛光表面结构对超高压/高速抛光的抛光寿命的影响
机译:CMP抛光装置在浆料磨料浓度对Si-CMP的影响中抛光装置的行为分析与抛光特性的关系
机译:使用英国摆锤测试仪评估沥青中的沥青抛光抛光
机译:一种体外研究可以使用两种抛光系统比较玻璃和席位抛光牙科整体氧化锆的表面粗糙度
机译:通过使用偏振显微镜和X射线光电子谱分析通过抛光部分的抛光部分的单个矿物质中的表面过程的鉴定通过抛光部分(XP)
机译:低温染料对低温超抛光镜和超抛光四方晶体微天平的影响