用于光电化学刻蚀氮化镓的刻蚀液

摘要

本发明公开了一种用于光电化学刻蚀氮化镓的刻蚀液，所述刻蚀液由氨基酸或其衍生物溶解于溶剂中组成。本发明以氨基酸或其衍生物为刻蚀剂用于光电化学刻蚀氮化镓，能够有效地刻蚀氮化镓，并且刻蚀工艺对设备要求低、操作方便、流程简易且绿色环保，对材料表面的损伤小。