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全环绕闸极垂直贯穿式晶体管及其制备方法

摘要

本发明的实施例提供了一种全环绕闸极垂直贯穿式晶体管及其制备方法,涉及半导体技术领域。全环绕闸极垂直贯穿式晶体管包括基底、器件单元和闸极,其中,至少两个器件单元依次重叠设置在基底上,器件单元上开设有垂直于基底的过孔,过孔贯穿全部器件单元;闸极设置在过孔内、并与全部器件单元连接。这样,通过在多个重叠设置的器件单元上开设贯穿的过孔,并在过孔内一次性形成闸极,使闸极与全部器件单元连接,相当于全部器件单元共用一个闸极,或者说,闸极的某一段即可对一个器件单元进行控制,整个闸极可以控制多个器件单元,使闸极一次性形成,闸极上各个部位受到的负载相同,各个器件单元之间不会存在明显的电性差异。

著录项

  • 公开/公告号CN112768514A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 泉芯集成电路制造(济南)有限公司;

    申请/专利号CN202110070630.6

  • 发明设计人 詹智颖;

    申请日2021-01-19

  • 分类号H01L29/41(20060101);H01L29/423(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构11463 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人严诚

  • 地址 250000 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室

  • 入库时间 2023-06-19 10:54:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-25

    授权

    发明专利权授予

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