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异质外延结构及其制造方法,包括异质外延结构的金属叠层体及其制造方法,纳米间隙电极及其制造方法

摘要

异质外延结构体包括具有多晶结构的第1金属部和第1金属部上的第2金属部,第2金属部在第1金属部上具有岛状结构,第2金属部设置为对应于在第1金属部表面上露出的至少一个晶粒,第2金属部和至少一个晶粒形成异质外延界面。第1金属部包括选自铂(Pt)、钯(Pd)、铑(Rd)、钌(Ru)、锇(Os)、铱(Ir)的一种金属元素,第2金属部优选为金(Au)。

著录项

  • 公开/公告号CN112771202A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201980062828.0

  • 申请日2019-08-30

  • 分类号C23C18/44(20060101);B32B15/01(20060101);C23C18/31(20060101);

  • 代理机构11442 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人石伟

  • 地址 日本埼玉县

  • 入库时间 2023-06-19 10:52:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-24

    授权

    发明专利权授予

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