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具有突变掺杂剂分布的高纵横比的源极或漏极结构

摘要

具有突变掺杂剂分布的高纵横比的源极或漏极结构。描述了具有带有突变掺杂剂分布的源极或漏极结构的集成电路结构。在示例中,集成电路结构包括水平纳米线的垂直布置。栅极叠层在水平纳米线的垂直布置周围。第一外延源极或漏极结构在水平纳米线的垂直布置的第一端。第二外延源极或漏极结构在水平纳米线的垂直布置的第二端。第一和第二外延源极或漏极结构包括硅、磷和砷,其中磷的原子浓度大体上与砷的原子浓度相同。

著录项

  • 公开/公告号CN112635459A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN202010579533.5

  • 申请日2020-06-23

  • 分类号H01L27/088(20060101);H01L27/092(20060101);H01L29/78(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人张凌苗;申屠伟进

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 10:32:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/088 专利申请号:2020105795335 申请日:20200623

    实质审查的生效

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