法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-10-28
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):A61B17/00 专利申请号:2020114530988 申请公布日:20210406
发明专利申请公布后的驳回
机译: 校正光影基质的方法,制造光影基质的方法,处理光影基质的方法,光影基质,制造光影的方法以及基质处理设备
机译: 校正光影缺陷的方法,校正光影缺陷的装置,校正光影缺陷的头,检查光影缺陷的装置和制造光影方法
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