公开/公告号CN112481586A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-12
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院物理研究所;
申请/专利号CN201910862037.8
申请日2019-09-12
分类号C23C14/28(20060101);C23C14/54(20060101);C23C14/06(20060101);H01L39/24(20060101);H01L39/12(20060101);
代理机构11521 北京市英智伟诚知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘丹妮;姚望舒
地址 100190 北京市海淀区中关村南三街8号
入库时间 2023-06-19 10:13:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-08-09
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/28 专利申请号:2019108620378 申请日:20190912
实质审查的生效
机译: 超导铌锡薄膜产品适用于HF应用-通过在受控的生长速率下进行反应性气相沉积,确保良好的表面质量
机译: 超导铌锡薄膜产品适用于HF应用-通过在受控的生长速率下进行反应性气相沉积,确保良好的表面质量
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