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一种密排结构的面内读写铁电存储器阵列及其制备方法

摘要

本发明属于存储技术领域,具体为一种密排结构的面内读写铁电存储器阵列及其制备方法。本发明的面内读写铁电存储器阵列,其中字线集成于铁电存储单元层面内,位线包括第一位线和第二位线层,布局于铁电存储单元层面外,各位线层具有沿第一方向排列的多条位线及多个间隙,间隙包括交替排列的第一间隙群与第二间隙群。第一导电柱阵列连接字线层和第一位线层,第二导电柱阵列连接字线层和第二位线层,二者错开排列。各导电柱与邻接的字线交叉点间隙区域配置有存储器构件。本发明的铁电存储结构具有不破坏存储层器件的存储功能,能够提高存储单元的存储能力,N层字线层存储单元尺寸为4F2/N,F为特征尺寸,适用于高密度器件,且制备简单、成本低。

著录项

  • 公开/公告号CN112466874A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN202011234815.8

  • 发明设计人 江安全;汪超;江钧;柴晓杰;张伟;

    申请日2020-11-08

  • 分类号H01L27/11504(20170101);H01L27/11507(20170101);H01L27/11514(20170101);H01L27/11587(20170101);H01L27/1159(20170101);H01L27/11597(20170101);

  • 代理机构31200 上海正旦专利代理有限公司;

  • 代理人陆飞;陆尤

  • 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号

  • 入库时间 2023-06-19 10:08:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-22

    授权

    发明专利权授予

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