用于基于等离子体的沉积的表面改性的深度受控沉积

摘要

一种用于执行衬底上的特征的间隙填充的方法，其包括：(a)移动所述衬底至处理室中；(b)执行ALD工艺的多个循环；(c)从所述处理室清扫来自所述ALD工艺的处理气体；(d)通过将含氟气体引入至所述处理室中并施加RF功率至所述含氟气体以在所述处理室中产生氟等离子体，而对所述衬底进行等离子体处理；(e)从所述处理室清扫来自所述等离子体处理的处理气体；(f)重复操作(b)至(e)，直到执行预定循环次数。