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公开/公告号CN112234352A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-15
原文格式PDF
申请/专利权人 中国人民解放军海军工程大学;
申请/专利号CN202010973861.3
发明设计人 刘立国;吴敏杰;王亮;覃基伟;孟田珍;
申请日2020-09-16
分类号H01Q1/42(20060101);
代理机构42104 武汉开元知识产权代理有限公司;
代理人刘琳
地址 430000 湖北省武汉市解放大道717号
入库时间 2023-06-19 09:33:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-05-17
授权
发明专利权授予
机译: 映射电子双折射,非球面介质的相移分布的方法以及映射电子双折射,非球面介质的相移分布的系统
机译: 使用共形光刻技术制作的精密天线罩可对曲面进行图案化
机译: 非球面-圆锥形共形光学窗口
机译:将球体转换为拟球面的射影映射的拟共形性
机译:通过共形映射综合拓扑优化来计算周期性共形超表面的计算设计和增材制造
机译:共形场理论和共形映射中的演化算子:纠缠哈密顿量,正弦平方形变形等
机译:体积准共形映射准共形映射,用于几何模拟应用的体积变形
机译:具有非常奇异边界的区域中地下水流的边界元方法解的共形映射改进
机译:基于球面谐波分解的非共形表面声场变换的声源定位
机译:拟共形映射下球面度量的畸变
机译:N = 2超共形模型张量积上的杂化弦真空振幅消失。