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GaSe/MoS2异质结的制备方法

摘要

本发明公开了GaSe/MoS2异质结的制备方法,属于光电器件的技术领域。本发明要解决现有制备GaSe/MoS2异质结存在MoS2纳米片形状不规则而且层数不可控、难以精确控制的技术问题。本发明采用化学气相沉积法得到单层MoS2,然后采用PDMS作为转移的媒介利用转移平台将机械剥离的GaSe与MoS2结合获得GaSe/MoS2异质结。本发明制备的GaSe/MoS2异质结是具有很好的光电性能,是许多光电器件的核心组件,比如紫外光电探测器等。

著录项

  • 公开/公告号CN112216751A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN201910624743.9

  • 申请日2019-07-11

  • 分类号H01L31/0336(20060101);H01L31/072(20120101);H01L31/109(20060101);H01L31/18(20060101);C23C16/30(20060101);

  • 代理机构23211 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司;

  • 代理人张金珠

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2023-06-19 09:30:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-07

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L31/0336 专利申请号:2019106247439 申请公布日:20210112

    发明专利申请公布后的驳回

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