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一种联动接触电容式加速度敏感芯片及其制造方法

摘要

本发明公开了一种联动接触电容式加速度敏感芯片及其制造方法。该芯片采用绝缘体上硅材料(SOI)并结合硅硅直接键合技术制造,Z轴为其敏感方向,包括刻有凹槽的单晶硅衬底,悬空可动的下极板,氮化硅介质层,密封腔体,上极板,金属层。初始状态下,敏感结构的腔体内部与外界存在气压差,上极板与下极板上的介质层处于接触状态;当外界加速度作用于敏感结构上时,两极板的接触面积发生变化,由于下极板是悬空可动的,上下极板形成联动效果,通过压焊点与外部电路连接成电容检测电路,将加速度信号转换成电容信号输出。这种联动接触电容式加速度敏感芯片具有线性度好、线性量程范围大、过载能力强、交叉耦合系数小、可靠性高、温度漂移小等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN112034204A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 沈阳工业大学;

    申请/专利号CN202010785862.5

  • 申请日2020-08-01

  • 分类号G01P15/125(20060101);G01P15/08(20060101);B81C3/00(20060101);B81C1/00(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 110870 辽宁省沈阳市经济技术开发区沈辽西路111号

  • 入库时间 2023-06-19 09:06:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-18

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01P15/125 专利申请号:2020107858625 申请公布日:20201204

    发明专利申请公布后的视为撤回

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