首页> 中国专利> 真空加热装置、反射器装置

真空加热装置、反射器装置

摘要

提供一种具有不发生由热伸长带来的损伤的反射器装置的真空加热装置。将被行列配置的多个单位反射板(31)通过固定装置(21)和保持装置(11a~11d)分别安装于真空槽(17)的安装面(19)。如果在各单位反射板(31)被照射红外线,则随着保持装置(11a~11d)的变形部(64)的变形,各单位反射板(31)以固定装置(21)的安装场所为中心而热伸长。通过热伸长,向各单位反射板(31)附加的力被缓和,防止了各单位反射板(31)被安装于安装面(19)的部位的损伤。

著录项

  • 公开/公告号CN112041627A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社爱发科;

    申请/专利号CN201980029651.4

  • 发明设计人 阪上弘敏;大野哲宏;

    申请日2019-08-26

  • 分类号F27B17/00(20060101);F27D7/06(20060101);F27D11/02(20060101);H01L21/26(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人朱美红;司昆明

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-06-19 09:06:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-05

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号