公开/公告号CN111883475A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-03
原文格式PDF
申请/专利权人 北京北方华创微电子装备有限公司;
申请/专利号CN202010695471.4
申请日2020-07-17
分类号H01L21/687(20060101);H01L21/67(20060101);
代理机构11315 北京国昊天诚知识产权代理有限公司;
代理人施敬勃
地址 100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
入库时间 2023-06-19 08:47:24
机译: 浸没式半导体晶圆清洗设备,特别是用于清洗硅晶圆中的颗粒的设备,使用由晶圆材料制成的声窗将声音以兆声的形式传输到清洗液中
机译: 晶圆边缘刻蚀装置,能够保护等离子体刻蚀气体中的卡盘并防止晶圆过度刻蚀
机译: 晶圆湿法清洗设备化学溶液加热装置