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双向阻断的单片异质集成Cascode结构场效应晶体管及制作方法

摘要

本发明公开了一种双向阻断的单片异质集成Cascode结构场效应晶体管,主要解决现有单片异质集成Cascode结构场效应晶体管无反向阻断特性的问题。其包括:衬底(1)、GaN缓冲层(2)、AlGaN势垒层(3)和SiN隔离层(4),该SiN隔离层的中间刻有隔离槽(15);隔离槽一侧的SiN隔离层上印制有Si有源层(5),以制备Si金属氧化物半导体场效应晶体管;隔离槽的另一侧制备GaN高电子迁移率晶体管,且其漏电极(8)与AlGaN势垒层采用肖特基接触,形成双向阻断的单片异质集成Cascode结构场效应晶体管。本发明具有双向阻断特性,应用范围广,可用作汽车、航空航天、发电站的电源转换器或反相器。

著录项

  • 公开/公告号CN111863806A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN202010747893.1

  • 申请日2020-07-30

  • 分类号H01L27/06(20060101);H01L29/47(20060101);H01L29/778(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构61205 陕西电子工业专利中心;

  • 代理人王品华

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2023-06-19 08:45:48

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