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公开/公告号CN111778484A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-16
原文格式PDF
申请/专利权人 季华实验室;
申请/专利号CN202010513293.9
发明设计人 卫红;胡琅;徐平;侯立涛;冯杰;胡强;侯少毅;
申请日2020-06-08
分类号C23C14/32(20060101);
代理机构44377 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人陈志超;黄家豪
地址 528200 广东省佛山市南海区桂城南平西路13号承业大厦13楼
入库时间 2023-06-19 08:33:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-07-15
授权
发明专利权授予
机译: 真空镀膜装置中等离子体源的阴极和真空镀膜装置的等离子体源
机译: 用离子束和磁控等离子体结合磁控等离子体和离子束源对物体进行组合处理的方法
机译: 单元将不需要的颗粒与真空镀膜等离子体分离,将吸收器电极置于等离子体阴影中,并加速正电荷载流子流向被镀膜衬底
机译:改进脉冲激光等离子体镀膜的真空沉积与离子束加工相结合的技术
机译:表面改变真空等离子体加工设备的研制,该装置用京都Keilborn益处风险公司和非织造织物改造的真空等离子体加工装置。
机译:真空电弧过滤金属等离子体在离子束和等离子体材料加工混合技术中的应用
机译:混合等离子体浸没离子注入和沉积(PIII&D)设备和技术的真空镀膜控制系统
机译:低温真空装置中磁光和静磁捕获铯的研究
机译:磁过滤真空电弧等离子体沉积系统
机译:热空心阴极真空镀膜中的等离子体行为:文献综述及实验建议