基于表面CVD生长石墨烯防止激光陀螺气体泄漏的方法

摘要

本发明公开了基于表面CVD生长石墨烯防止激光陀螺气体泄漏的方法，其特征在于，包括以下步骤：A.在腔长控制镜需要生长石墨烯的区域磁控溅射镀制若干纳米厚度的铜或者镍；B.CVD法生长石墨烯；C.利用真空护罩法检测使用该处理方法前后的氦泄漏率。本发明与现有技术相比的优点在于：利用石墨烯优异的气体阻隔性能，采用CVD法为激光陀螺厚度最薄的腔长控制镜增加一层石墨烯层，防止氦气的渗透逃逸；该方法性能稳定、操作简单、成本低，能有效延长激光陀螺的使用寿命。