一种可在溶液中稳定存在的蒙脱石薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种可在溶液中稳定存在的蒙脱石薄膜的制备方法，包括以下步骤：1）将一定量蒙脱石分散在溶剂中通过真空抽滤制备蒙脱石薄膜A1；2）将步骤1）中所得蒙脱石薄膜A1于20‑70oC条件下干燥10‑20 h，90‑120oC条件下低温退火处理5‑10 h，200‑500oC条件下低温退火处理20‑30 h，得到可在溶液中稳定存在的蒙脱石薄膜A2。本发明通过真空抽滤及简单低温热处理和退火处理制备了一种可在溶液中稳定存在的蒙脱石薄膜，无需引入有机改性剂，操作简单，低温退火过程对薄膜内部有序层结构影响较小，所得退火后蒙脱石薄膜可在溶液中稳定存在28 d以上，有利于蒙脱石薄膜的长期稳定应用。