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一种高值电阻的PHEMT器件

摘要

本发明提供了一种高值电阻的PHEMT器件,包括基底层、设置在基底层上的外延层,以及间隔设置在外延层上表面的金属层,通过欧姆接触的形式形成的漏极、栅极和源极;通过将栅极悬空或与源极短接的处理,所述PHEMT器件始终偏置在Vgs=0的小栅压下,此状态下的PHEMT器件IDVD曲线线性区表现为高值电阻特性。本发明提供了一种高值电阻的器件,以在小面积下实现高阻值,并且没有附加的工艺步骤,不引入额外成本。

著录项

  • 公开/公告号CN109103243A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门市三安集成电路有限公司;

    申请/专利号CN201810818172.8

  • 申请日2018-07-24

  • 分类号H01L29/417(20060101);H01L29/423(20060101);H01L29/778(20060101);H01L23/64(20060101);

  • 代理机构35204 厦门市首创君合专利事务所有限公司;

  • 代理人李雁翔;张迪

  • 地址 361000 福建省厦门市同安区洪塘镇民安大道753-799号

  • 入库时间 2023-06-19 07:57:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/417 申请日:20180724

    实质审查的生效

  • 2018-12-28

    公开

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