公开/公告号CN109073965A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-12-21
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201780025548.3
申请日2017-04-04
分类号G03B27/54(20060101);G21G4/00(20060101);G21K5/04(20060101);H01H1/00(20060101);H05G2/00(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华;郭星
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-06-19 07:54:06
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-21
实质审查的生效 IPC(主分类):G03B27/54 申请日:20170404
实质审查的生效
2018-12-21
公开
公开
机译: 减轻等离子体对极端紫外光源中物体的影响
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机译: 在生成的空激光等离子体中,激光等离子体的极紫外光源