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减小等离子体对极紫外光源中物体的影响

摘要

向真空室的内部提供第一目标,朝向第一目标引导第一光束以从第一目标的目标材料形成第一等离子体,第一等离子体与沿着第一发射方向从第一目标发射的粒子和辐射的方向通量相关联,第一发射方向由第一目标的定位确定;向真空室的内部提供第二目标;并且朝向第二目标引导第二光束以从第二目标的目标材料形成第二等离子体,第二等离子体与沿着第二发射方向从第二目标发射的粒子和辐射的方向通量相关联,第二发射方向由第二目标的定位,第一和第二发射方向不同。

著录项

  • 公开/公告号CN109073965A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201780025548.3

  • 申请日2017-04-04

  • 分类号G03B27/54(20060101);G21G4/00(20060101);G21K5/04(20060101);H01H1/00(20060101);H05G2/00(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华;郭星

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 07:54:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03B27/54 申请日:20170404

    实质审查的生效

  • 2018-12-21

    公开

    公开

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