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一种制备亚微米周期任意极化图案铌酸锂微盘腔的方法

摘要

本发明提供一种制备亚微米周期任意极化图案铌酸锂微盘腔的方法,其包括以下步骤:步骤一,生成带下电极的铌酸锂薄膜;步骤二,在铌酸锂薄膜上制备微盘腔掩模图案;步骤三,对样品进行反应离子束刻蚀,形成铌酸锂微盘;步骤四,在铌酸锂微盘上构造任意图案的极化结构;步骤五,对样品进行金属层和二氧化硅层刻蚀,形成边缘悬空的周期极化铌酸锂微盘腔。该发明操作简单,精度高,可实现具有小周期任意极化图案的铁电晶体微腔的制备。

著录项

  • 公开/公告号CN109061910A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南开大学;

    申请/专利号CN201811053887.5

  • 申请日2018-09-11

  • 分类号G02F1/05(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 300071 天津市南开区卫津路94号

  • 入库时间 2023-06-19 07:52:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-21

    公开

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