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系统衬底中的微型器件集成

摘要

后处理步骤用于将微型器件集成到系统(接收器)衬底中或者在转印之后改善微型器件的性能。用于诸如反射层、填充物、黑色矩阵或其它层的附加结构的后处理步骤可用于改善所产生的LED光的输出耦合和限制。介电层和金属层可用于将电光薄膜器件集成到具有经转印的微型器件的系统衬底中。颜色转换层可集成到系统衬底中以产生来自微型器件的不同的输出。

著录项

  • 公开/公告号CN109075119A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 维耶尔公司;

    申请/专利号CN201780013977.9

  • 申请日2017-03-06

  • 分类号H01L21/70(20060101);B81C1/00(20060101);H01L31/18(20060101);H01L33/00(20060101);H01L51/48(20060101);H01L51/56(20060101);

  • 代理机构11204 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王达佐;王艳春

  • 地址 加拿大安大略

  • 入库时间 2023-06-19 07:51:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/70 申请日:20170306

    实质审查的生效

  • 2018-12-21

    公开

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