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一种二甲基硅油表面磁控溅射沉积氮化钛的方法

摘要

本发明属于磁控溅射技术,具体涉及一种二甲基硅油表面磁控溅射沉积氮化钛的方法。其特征在于按如下步骤进行:步骤1、溅射前处理;步骤2、溅射镀膜参数调节;步骤3、真空室内剥离薄膜;步骤3、关机取样。本发明有益效果:通过本方法,对二甲基硅油表面磁控溅射沉过程控制简单,薄膜厚度可控,无氮化钛褶皱形成。

著录项

  • 公开/公告号CN109055894A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州联芳科技有限公司;

    申请/专利号CN201811058725.0

  • 发明设计人 丁红;乔宪武;

    申请日2018-09-12

  • 分类号C23C14/06(20060101);C23C14/35(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 310018 浙江省杭州经济技术开发区白杨街道科技园路2号5幢1层01-11单元93工位

  • 入库时间 2023-06-19 07:48:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-21

    公开

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