用直流反应磁控溅射法沉积氮化钛膜及其性能

摘要

在氩、氮混合气氛中，对钛金属靶采用直流反应磁控溅射法，在玻璃基片上沉积了氮化钛膜。沉积过程中，总压强在０．２－３Ｐａ范围内变化。利用Ｘ射线衍射法，扫描电子显微镜，反射光谱和电阻率测量等方法研究了总压强对膜的结构，光性能和电性能的影响。