用于在应用基于氧化硅的材料的情况下构件的结构化的方法和装置

摘要

本发明涉及用于在应用基于氧化硅、特别是硅酸盐玻璃、玻璃陶瓷或石英地材料的情况下对构件进行结构化的方法和装置，其中，根据本方法在构件的至少一个第一表面处通过等离子体蚀刻而部分地进行材料的剥蚀和至少在待蚀刻表面处在等离子体蚀刻期间衬底温度是可调节的，该温度基本上大于90℃，但是小于材料的软化温度。所述装置还设置有用来产生衬底温度的加热器。