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一种高迁移率氮掺杂大单晶石墨烯薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高迁移率氮掺杂大单晶石墨烯薄膜及其制备方法。氮掺杂大单晶石墨烯薄膜中氮原子以石墨型氮掺杂于石墨烯晶格中;氮原子的掺杂形式为簇状掺杂;至少3个氮原子与碳原子形成簇状结构镶嵌于石墨烯薄膜中。氮掺杂大单晶石墨烯薄膜的制备方法包括如下步骤:采用还原性气体和含氮碳源气体作为生长气氛,利用化学气相沉积法在生长基底上生长单晶石墨烯岛;在氧化性气氛中对单晶石墨烯岛进行钝化处理;钝化处理结束后,利用化学气相沉积法进行石墨烯再生长即得。本发明氮掺杂大单晶石墨烯薄膜可用于透明导电薄膜、透明电极、高频电子器件、发光器件、光伏器件、光电探测器件、电光调制器件、散热器件或疏水性器件封装中。

著录项

  • 公开/公告号CN108950683A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京大学;

    申请/专利号CN201710372584.9

  • 申请日2017-05-24

  • 分类号C30B29/02(20060101);C30B29/64(20060101);C30B25/00(20060101);C23C16/26(20060101);C23C16/02(20060101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人关畅;王春霞

  • 地址 100083 北京市海淀区成府路202号

  • 入库时间 2023-06-19 07:34:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B29/02 申请日:20170524

    实质审查的生效

  • 2018-12-07

    公开

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