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一种基于泄露辐射成像在ccd靶面与安装定位面夹角误差的校准方法及装置

摘要

本发明公开了一种基于泄露辐射成像在ccd靶面与安装定位面夹角误差的校准方法及装置,包括:照明光源,待测荧光物质,含金属层芯片基底,折射率匹配油,显微物镜,反射镜,偏振元件组,滤光片,聚束透镜,水平滑轨,成像透镜,ccd图像传感器。荧光样品在被照明光源辐照后,产生荧光表面等离激元波并泄露辐射通过含金属层芯片基底,在被显微物镜收集信号后实现荧光成像。期间,照明光源发出的激发光由偏振元件组和滤光片过滤。通过移动成像透镜的位置,提出泄露辐射霍夫变换算法对ccd图像传感器靶面进行检测,完成常规手段不易发现的ccd靶面与安装定位面夹角误差的精确校准。本发明结构简单,适用性强。

著录项

  • 公开/公告号CN108956571A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京理工大学;

    申请/专利号CN201810843800.8

  • 申请日2018-07-27

  • 分类号

  • 代理机构南京理工大学专利中心;

  • 代理人张祥

  • 地址 210094 江苏省南京市孝陵卫200号

  • 入库时间 2023-06-19 07:30:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/64 申请日:20180727

    实质审查的生效

  • 2018-12-07

    公开

    公开

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