公开/公告号CN108803236A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-11-13
原文格式PDF
申请/专利权人 罗门哈斯电子材料有限责任公司;
申请/专利号CN201810396587.0
申请日2018-04-27
分类号G03F7/00(20060101);G03F7/004(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人陈哲锋;胡嘉倩
地址 美国马萨诸塞州
入库时间 2023-06-19 07:12:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-12-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20180427
实质审查的生效
2018-11-13
公开
公开
机译: 涂层基质,一种光致抗蚀剂图像形成方法以及一种防反光的组合物,该组合物可以与过量涂层的光致抗蚀剂组合使用,从而可以提高图案化的光致抗蚀剂图像的分辨率
机译: 用于光致抗蚀剂的外涂层组合物和使用该组合物的光致抗蚀剂图案的形成方法
机译: 用于制造探针阵列的光致抗蚀剂组合物,使用该光致抗蚀剂组合物的探针阵列的制造方法,用于光敏型显影的底部抗反射涂层的组合物,使用其的图案的制造方法以及使用该图案的半导体器件的制造方法