检查真空腔室中的气体分离通道的气体分离品质的方法，以及真空处理装置

摘要

根据本公开内容的一个方面，提供一种检查在真空腔室(2)中的第一真空处理区域(10)与至少一个第二真空处理区域(12)之间延伸的气体分离通道(20)的气体分离品质的方法，其中气体分离通道(20)被构造为用于基板的通路，同时减少从第一真空处理区域(10)至至少一个第二真空处理区域(12)中的气流。此方法包括：将测试气体(31)引入至第一真空处理区域(10)中；以及测量至少一个第二真空处理区域(12)中的背景气体中的测试气体的第一含量(33)。根据第二方面，提供用于执行此方法的一种真空处理装置(1)和一种真空沉积装置(100,500)。