公开/公告号CN108593264A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-09-28
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉华星光电技术有限公司;
申请/专利号CN201810395279.6
申请日2018-04-27
分类号G01M11/02(20060101);
代理机构44265 深圳市德力知识产权代理事务所;
代理人林才桂;李雯雯
地址 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
入库时间 2023-06-19 06:40:10
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-10-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G01M11/02 申请日:20180427
实质审查的生效
2018-09-28
公开
公开
机译: 一种清洁用于制造OLED器件的真空系统的方法,一种用于制造OLED器件的基板上的真空沉积方法,以及用于在用于制造OLED器件的基板上真空沉积的装置
机译: 用于清洁用于制造OLED器件的真空系统的方法,用于制造OLED器件的基板上的真空沉积方法,以及用于制造OLED器件的基板上的真空沉积的装置
机译: 用于清洁用于制造OLED器件的真空系统的方法,用于制造OLED器件的基板上的真空沉积方法,以及用于制造OLED器件的基板上的真空沉积的装置