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磁壁利用型模拟存储元件以及磁壁利用型模拟存储器

摘要

本发明所涉及的磁壁利用型模拟存储元件(100)具备:磁壁驱动层(1),具有磁壁(DW)、第1区域(1a)、第2区域(1b)、位于第1区域与第2区域之间的第3区域(1c);磁化固定层(5),经由非磁性层(6)被设置于第3区域;下部电极层(4),在第3区域的设置有磁化固定层的第1面的相反的第2面上被设置于从俯视图看与磁化固定层相重叠的位置。

著录项

  • 公开/公告号CN108604573A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK株式会社;

    申请/专利号CN201780009225.5

  • 发明设计人 佐佐木智生;

    申请日2017-04-14

  • 分类号

  • 代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨琦

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 06:38:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/8239 申请日:20170414

    实质审查的生效

  • 2018-09-28

    公开

    公开

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