一种采用磁控溅射沉积纳米纯Ti薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种采用磁控溅射沉积纳米纯Ti薄膜的方法。包括以下步骤：将待沉积的样品经酒精超声波清洗15min后，用纯N2气吹干放入真空腔内旋转工件架上，将真空腔内真空度抽至9×10‑5Pa—3×10‑4Pa，随后通入氩气并将真空度保持在0.6Pa，氩气气流量为70ml/min；开启脉冲靶电源和脉冲负偏压电源对样品进行等离子轰击清洗，离子清洗时间15min；沉积纯Ti膜层，镀膜持续时间30～90min；完成镀膜的样品待冷却后，取出。本发明的磁控溅射方法的阴阳极间电场环境具有高电压高电流特征，制备出的纯Ti薄膜可集膜层致密光滑、沉积速率快和平均晶粒尺寸小于20nm等优点于一体；制备方法简捷稳定，工序少，产量高，能满足工业化生产的要求。