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用于装置加工的钻石底半导体晶圆的安装技术

摘要

本发明涉及一种载体基板上的钻石底半导体晶圆(55)。载体基板上的钻石底半导体晶圆(55)包含:具有钻石侧和半导体侧的钻石底半导体晶圆(40);设置于钻石底半导体晶圆(40)的钻石侧上,并包括具有低于钻石的热膨胀系数(CTE)的至少一层的载体基板(50);以及设置于钻石底半导体晶圆(40)的钻石侧和载体基板(50)之间,以结合载体基板(50)和钻石底半导体晶圆(40)的黏附层(48)。载体基板上的钻石底半导体晶圆(55)具有下列特性:总厚度变化不超过40微米;晶圆弯曲度不超过100微米;以及晶圆翘曲度不超过40微米。

著录项

  • 公开/公告号CN108475619A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RFHIC公司;

    申请/专利号CN201680065174.3

  • 申请日2016-11-10

  • 分类号

  • 代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人张晶

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-06-19 06:20:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20161110

    实质审查的生效

  • 2018-08-31

    公开

    公开

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