一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液

摘要

本发明公开了一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液，按质量分数计包括以下组分：氢氟酸0.1％‑10％，氟化铵1％‑40％，缓释剂0.005％‑0.5％，渗透剂0.005％‑0.5％，纯水余量。本发明的一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液，对制程中氧化硅膜层具有高度选择性蚀刻，蚀刻速率可控，蚀刻后无台阶出现；蚀刻液对接触层ILD膜及GI膜层无蚀刻；通过引入缓冲剂，对多晶硅基材及玻璃基板蚀刻速率效率小于