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机译:等离子体聚合氢化硅碳氧化物缓冲层对沉积在聚对苯二甲酸乙二醇酯基板上的铟锡氧化物膜的改进
Department of Materials Science and Engineering, Feng Chia University, 100 Wenhwa Rd., Seatwen, Taichung, 40724, Taiwan;
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机译:衬底温度对直流磁控溅射沉积在聚对苯二甲酸乙二醇酯衬底上的铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:聚对苯二甲酸乙二醇酯和氧化铟锡/聚对苯二甲酸乙二醇酯柔性基板上掺锡ZnO薄膜的光电特性研究
机译:在涂铟锡氧化物薄膜之前,将预应变施加到聚对苯二甲酸乙二醇酯基底上对薄膜质量以及光学,电学和机械性能的影响
机译:沉积在用于电容式触摸屏的聚对苯二甲酸乙二醇酯基板上的铟锡氧化物薄膜的电学,光学特性
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:氧化铟锡(ITO)涂层的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)电极上巨泡的电形成
机译:用有机缓冲层改善聚合物基材上氧化铟氧化物膜的力学性能