减少光刻工艺中掩模版的加热和/或冷却的影响的方法

摘要

本发明涉及减少光刻工艺中的掩模版加热和/或冷却的影响的方法，包括步骤：使用系统辨识方法来校准线性时不变掩模版加热模型；使用所述掩模版加热模型和光刻工艺中的输入来预测掩模版的变形；和基于所预测的掩模版的变形来计算和应用光刻工艺中的校正。