首页> 中国专利> 具有在栅极流道层之下的源极场板的晶体管

具有在栅极流道层之下的源极场板的晶体管

摘要

本申请涉及具有在栅极流道层之下的源极场板的晶体管。一种晶体管器件(100)包含从源极接触层(132)延伸并在栅极金属层(123)上方限定开口(133)的场板(133)。与源极接触层共面,场板靠近沟道区域(124)定位,这有助于降低它的寄生电容。同时,开口允许场板上方的栅极流道层(104)接近并连接到栅极金属层,这有助于减小栅极结构的电阻。通过竖直地重叠金属栅极层、场板和栅极流道层,晶体管器件可以实现快速开关性能而不会造成任何尺寸损失。

著录项

  • 公开/公告号CN108269845A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-07-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德克萨斯仪器股份有限公司;

    申请/专利号CN201711468898.5

  • 发明设计人 H·友松;H·山崎;S·彭德哈卡尔;

    申请日2017-12-29

  • 分类号

  • 代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐东升

  • 地址 美国德克萨斯州

  • 入库时间 2023-06-19 05:55:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/40 申请日:20171229

    实质审查的生效

  • 2018-07-10

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号