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具有深沟槽隔离结构的主动及被动组件

摘要

本发明涉及具有深沟槽隔离结构的主动及被动组件,其关于半导体结构,并且更尤指具有深沟槽隔离结构的主动及被动射频(RF)组件、以及制造方法。该结构包括具有深沟槽隔离结构的主体高电阻率芯片,该深沟槽隔离结构具有比该主体高电阻率芯片上所形成的装置间的最坏情况偏压差下的最大空乏深度更深的深度。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/762 申请日:20171020

    实质审查的生效

  • 2018-06-15

    公开

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