一种等离子体辅助原子层沉积装置

摘要

本发明公开了一种等离子体辅助原子层沉积装置，包括反应腔室、至少一个进气模块、加热装置、出气管、真空泵、载板和至少一个基片；所述进气模块包括第一进气通道、第二进气通道和射频电极，所述第一进气通道的一端连接第一气体源，另一端通入反应腔室中，所述第二进气通道的一端连接第二气体源，另一端通过射频电极将第二气体电离为等离子体后通入反应腔体，并且第一气体和第二气体垂直于基板表面进入反应腔室中；在反应腔室中，第一气体和第二气体出口两侧均设置绝缘隔板。本发明提供的一种等离子体辅助原子层沉积装置，能够显著提高反应气体的活性，大幅提升薄膜的沉积速率，从而提高对前驱体源的利用率和生产效率。