离子注入浓度检测方法及不同离子机台离子注入浓度一致性的评测方法

摘要

本发明涉及离子注入浓度的检测方法，包括以下步骤：对晶圆进行离子注入；刻蚀离子注入区的晶圆到目标深度，在该处形成一定厚度的氧化膜，根据氧化膜的生长速率判断该处的离子注入浓度。本发明的检测方法能够准确地判断离子注入浓度和不同深度的离子注入浓度的大小，并且能够用于判断不同的离子注入机台/程序的一致性。