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在等离子体离子注入过程中测量掺杂物浓度的方法

摘要

本发明的具体实施方式提供一种在等离子体掺杂工艺期间用来检测预设掺杂物浓度终点的方法。在一具体实施方式中,此方法包含:将基板置于处理腔室中;于基板上产生一等离子体,并使等离子体所产生的光线穿过基板,其中光线是由基板的上表面进入并由基板的下表面离开,且光线由位于基板下方的传感器接收。此方法还包含:产生一信号,其与传感器所接收的光线成比例;在掺杂工艺中,将掺杂物注入此基板;在掺杂工艺中产生多组光信号,其与传感器所接收的光的减少量成比例;当基板具有最终掺杂物浓度时,产生一终点信号,其与传感器所接收的光成比例;以及停止掺杂工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN101971317B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-10-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN200980108920.2

  • 发明设计人 马耶德·A·福阿德;李实健;

    申请日2009-02-24

  • 分类号H01L21/66(20060101);H01L21/265(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;赵静

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-23 09:11:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-04-05

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/66 授权公告日:20121010 终止日期:20160224 申请日:20090224

    专利权的终止

  • 2012-10-10

    授权

    授权

  • 2012-02-15

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/66 变更前: 变更后: 申请日:20090224

    著录事项变更

  • 2011-04-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20090224

    实质审查的生效

  • 2011-02-09

    公开

    公开

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