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用于校准3D成像的方法和用于3D成像的系统

摘要

一种用于校准基于电磁辐射的三维成像的方法包括:至少部分地基于从校准工件接收到的电磁波来获得(501)校准成像结果;基于校准成像结果和校准工件的已知厚度剖面,形成(502)校准数据;在校准数据的帮助下,校正(503)至少部分地基于从待成像的样本接收到的电磁波获得的成像结果。校准工件包括例如Langmuir‑Blodgett膜的层,其具有预定厚度并彼此堆叠以便实现校准工件的预定厚度剖面。还提出了配置为执行该方法的三维成像系统。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-05

    专利申请权的转移 IPC(主分类):G01B9/02 登记生效日:20190618 变更前: 变更后: 申请日:20151029

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-12-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B9/02 申请日:20151029

    实质审查的生效

  • 2017-11-28

    公开

    公开

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