曝光掩模、曝光设备和用于校准曝光设备的方法

摘要

本发明涉及曝光掩模、曝光设备和用于校准曝光设备的方法。根据不同的实施形式，曝光掩模（100）可以具有如下部分：载体（102）；在载体（102）的第一结构级（101a）中的第一曝光结构（104a）；和在载体（102）的第二结构级（101b）中的第二曝光结构（104b），其中这两个结构级（101a，101b）彼此不同。