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溶胶凝胶法制备(00l)方向外延的Bi2212超导薄膜

摘要

本发明涉及溶胶凝胶法制备(00l)方向外延的Bi2212超导薄膜,以金属硝酸盐为原料,乙二胺四乙酸为络合剂,羟乙基纤维素为表面活性剂,以SrTiO

著录项

  • 公开/公告号CN107248430A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-10-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东北大学;

    申请/专利号CN201710573068.2

  • 发明设计人 祁阳;王天林;

    申请日2017-07-14

  • 分类号

  • 代理机构沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人俞鲁江

  • 地址 110819 辽宁省沈阳市和平区文化路3号巷11号

  • 入库时间 2023-06-19 03:28:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-19

    授权

    授权

  • 2017-11-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01B12/06 申请日:20170714

    实质审查的生效

  • 2017-10-13

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及Bi2212超导薄膜技术领域,具体涉及溶胶凝胶法制备(00l)方向外延的Bi2212超导薄膜。

背景技术

超导技术是当代凝聚态物理中最重要的研究领域之一,是当代材料科学一个十分活跃的重要前沿,同时也是21世纪具有战略意义、广泛应用和巨大发展潜力的高新技术。

Bi2212超导体具有短相干长度,强各向异性的特点,展现出较强的二维特性。这些特点使得Bi2212超导薄膜在低表面微波阻抗、各向异性特征和本征约瑟夫森结特性等方面具有独特的性质,因而在超导激光开发、本征约瑟夫森和超导微波器件等超导电子学和超导光电子学方面具有广阔的应用前景。

溶胶凝胶法是成本低廉、快速高效、适合大规模工业生产的一种简单的制备工艺。现有少量关于铋系超导材料溶液法制备的公开专利。例如,中国专利CN105047810A公开了一种在基带上涂覆铋系超导溶液,制备Bi2212、Bi(Pb)2223高温超导材料的方法;中国专利CN105845270A公开了一种在衬底上旋涂铋系超导粉悬浊液制备铋系超导厚膜的方法。在已公开的文献中,大多数Bi2212超导薄膜采用分子束外延、脉冲激光沉积等真空物理沉积的方法,这些方法需要较复杂、昂贵的真空设备,生产成本高,生产效率低,难以实现大规模的工业化生产。相对而言,溶胶凝胶法是一种可满足工业化生产需要,低成本,高效率的生产工艺,虽然其在制备Bi2212超导薄膜方面的报道较少,但其拥有广阔的发展前景。因此,利用溶胶凝胶法制备(00l)外延取向的Bi2212超导薄膜就更具有重要意义。

常规的溶胶凝胶法本身具有一些固有的缺陷,如溶胶对基底的附着力较差等问题。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明提供溶胶凝胶法制备(00l)方向外延的Bi2212超导薄膜,以金属硝酸盐为原料,乙二胺四乙酸为络合剂,羟乙基纤维素为表面活性剂,以SrTiO3(100)或MgO(100)为基底,利用溶胶凝胶法制备高纯度、低表面粗糙度的(00l)方向外延的Bi2212超导薄膜。先以五水硝酸铋、硝酸锶、四水硝酸钙、三水硝酸铜、乙二胺四乙酸制备前驱溶液,在前驱溶液中加入表面活性剂羟乙基纤维素制得前驱溶胶,有效提高前驱溶胶对基底的浸润性,提高了成膜质量,降低了薄膜的表面粗糙度。再利用旋涂法制得前驱薄膜,最后将前驱薄膜通过两次升温得到(00l)方向外延的Bi2212薄膜。

具体技术方案如下:

溶胶凝胶法制备(00l)方向外延的Bi2212超导薄膜,以金属硝酸盐为原料,以乙二胺四乙酸为络合剂,以羟乙基纤维素为表面活性剂,以SrTiO3(100)或MgO(100)为基底,采用溶胶凝胶法制备(00l)方向外延的Bi2212超导薄膜,包括以下步骤:

(1)制备前驱溶液:按一定比例称取五水硝酸铋、硝酸锶、四水硝酸钙、三水硝酸铜、乙二胺四乙酸,将五水硝酸铋溶于27~31%的硝酸中,配成第一溶液;将硝酸锶、四水硝酸钙、三水硝酸铜溶于去离子水中,配成第二溶液;将乙二胺四乙酸溶于25~28%的氨水中,配成第三溶液;将第一溶液与第二溶液均匀混合后,缓慢滴加第三溶液,并用氨水调剂pH值在6~7之间,获得前驱溶液;

(2)制备前驱溶胶:向上述前驱溶液中加入羟乙基纤维素溶液,于室温搅拌5~8小时,得到第一溶胶,再将第一溶胶在80~100℃搅拌加热20~40分钟,得到前驱溶胶;

(3)旋涂法制备前驱薄膜:将前驱溶胶旋涂于SrTiO3(100)或MgO(100)基底上,然后置于平板加热器110~130℃干燥20~30分钟,得到第一层前驱膜,重复这一过程1~5次,旋涂层数为1~5层,且每一层的旋涂工艺皆相同,得到前驱薄膜;

(4)制备(00l)方向外延的Bi2212薄膜:将上述前驱薄膜以2℃/分升温至610~620℃,保温60分钟,再以3.5℃/分升温至819~827℃,保温10~70分钟,随炉冷却至室温,得到(00l)方向外延的Bi2212超导薄膜。

所述乙二胺四乙酸、五水硝酸铋、硝酸锶、四水硝酸钙、三水硝酸铜均为分析纯,摩尔比为7:2:2:1:2。

所述第一溶液硝酸铋浓度为0.33~0.37mol/L,所述第二溶液硝酸锶、四水硝酸钙、三水硝酸铜金属离子总浓度为0.25~0.29mol/L,所述第三溶液乙二胺四乙酸浓度为2.10~2.38mol/L。

所述羟乙基纤维素溶液质量分数为2.5~3.5%,所述前驱溶液与羟乙基纤维素溶液体积比为6:1。

所述旋涂法的旋涂速度为4000~8000转/分,旋涂时间为40秒。

本方法的优点是:

1、本发明采用的原料为金属硝酸盐,来源广泛,成本低廉;

2、本发明制备过程中以乙二胺四乙酸为络合剂,对本发明中的四种金属离子均有较好的络合能力,可以保证金属离子分散的均匀性,在后续(00l)方向外延的Bi2212薄膜的制备时可以防止杂相的生成;

3、本发明制备过程中通过在溶胶体系中增加高分子表面活性剂,有效地提高前驱溶胶对基底的浸润性,提高了成膜质量,降低了薄膜的表面粗糙度,进而提高溶胶凝胶法制备(00l)外延取向的Bi2212超导薄膜稳定性与重复性;

4、本发明制备过程中以SrTiO3(100)或MgO(100)为基底,SrTiO3与本发明中的Bi2212晶格比配较好,是制备多种钙钛矿结构薄膜的优质基底;而MgO在微波波段的介电常数和介电损耗都很小,且较易得到大尺寸的单晶基底,是制备高温超导微波器件的优选基底;

5、本发明制备的Bi2212超导薄膜具有较高相纯度,较小的表面粗糙度,无孔洞,结构致密、均匀;本发明制备工艺简单,生产设备少,效率高,生产成本低,可实现大规模的工业化生产,满足商业化应用要求;

6、本发明溶胶凝胶法使得制膜工艺简单化,原料化学计量比可精确控制,并具有膜厚均匀,成分均匀,重复性好等优点。

附图说明

图1为生长在SrTiO3基底上的Bi2212超导薄膜的XRD图谱;

图2为生长在SrTiO3基底上的Bi2212超导薄膜的AFM图像;

图3为生长在MgO基底上的Bi2212超导薄膜的XRD图谱;

图4为生长在MgO基底上的Bi2212超导薄膜的AFM图像;

图5为生长在SrTiO3基底上的Bi2212超导薄膜的RT曲线。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明进行详细说明,但本发明的保护范围不受实施例所限。

实施例1

称取7.7612g五水硝酸铋,溶于22ml浓度为29%的浓硝酸,称取3.3860g硝酸锶,1.8892g四水硝酸钙,3.8656g三水硝酸铜,溶于30ml去离子水后,与之前硝酸铋硝酸溶液混合。称取16.3692g乙二胺四乙酸,溶于25ml浓度25%氨水后,缓慢滴加入上述金属离子混合溶液,并用氨水调节pH值为6,得到前驱溶液。取30ml前驱溶液,加入5ml质量分数为3%的羟乙基纤维素溶液,搅拌5小时后,于90℃搅拌加热30分钟,得到前驱溶胶。将前驱溶胶滴在洁净的SrTiO3(100)单晶基底上,旋涂速度为4000转/分,旋涂时间为40秒后,置于120℃的平板加热器干燥20分钟。重复上述过程3次,得到前驱薄膜。将得到的前驱薄膜置于管式炉中,以2℃/分的升温速率升至615℃,保温60分钟,再以3.5℃/分的升温速率升至824℃,保温35分钟,得到(00l)外延取向的Bi2212薄膜。

实施例2

称取7.7612g五水硝酸铋,溶于22ml浓度为29%的浓硝酸,称取3.3860g硝酸锶,1.8892g四水硝酸钙,3.8656g三水硝酸铜,溶于30ml去离子水后,与之前硝酸铋硝酸溶液混合。称取16.3692g乙二胺四乙酸,溶于25ml浓度28%氨水后,缓慢滴加入上述金属离子混合溶液,并用氨水调节pH值为7,得到前驱溶液。取30ml前驱溶液,加入5ml质量分数为3%的羟乙基纤维素溶液,搅拌5小时后,于90℃搅拌加热30分钟,得到前驱溶胶。将前驱溶胶滴在洁净的MgO(100)单晶基底上,旋涂速度为6000转/分,旋涂时间为40秒后,置于120℃的平板加热器干燥20分钟。重复上述过程5次,得到前驱薄膜。将得到的前驱薄膜置于管式炉中,以2℃/分的升温速率升至615℃,保温60分钟,再以3.5℃/分的升温速率升至821℃,保温60分钟,得到(00l)外延取向的Bi2212薄膜

图1为生长在SrTiO3基底上的Bi2212超导薄膜的XRD图谱,图谱中只存在强而尖锐Bi2212相(00l)面的衍射峰,无其他晶面和杂相衍射峰,表明Bi2212超导薄膜具有很高纯度,且其生长取向为沿c轴外延生长。

图2为生长在SrTiO3基底上的Bi2212超导薄膜的AFM图像,图像显示Bi2212超导薄膜结构连续,具有平坦光滑的表面,其均方根表面粗糙度为7.74nm。

图3为生长在MgO基底上的Bi2212超导薄膜的XRD图谱,图谱中只存在强而尖锐Bi2212相(00l)面的衍射峰,无其他晶面和杂相衍射峰,表明Bi2212超导薄膜具有很高纯度,且其生长取向为沿c轴外延生长。

图4为生长在MgO基底上的Bi2212超导薄膜的AFM图像,图像显示Bi2212超导薄膜结构连续,具有平坦光滑的表面,其均方根表面粗糙度为8.19nm。

图5为生长在SrTiO3基底上的Bi2212超导薄膜的RT曲线,Bi2212超导薄膜的电阻在110K-300K区间展现出良好的线性依赖关系,表明此时薄膜的正常态电阻温度关系呈金属态特性。随温度的进一步降低,薄膜电阻急剧下降,直至变为零电阻,表现为正常态向超导态的转变。相变过程展现出较高的临界转变温度和较窄的转变宽度。薄膜的起始转变温度为96.2K,零电阻转变温度为87.1K,转变宽度8.2K。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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