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场效应晶体管以及包括该场效应晶体管的半导体器件

摘要

本发明公开了场效应晶体管以及包括该场效应晶体管的半导体器件。该半导体器件可以包括:沟道层,设置在基板上并且包括由第一材料制成的二维原子层;和源/漏层,设置在基板上并且包括第二材料。第一材料可以是磷的同素异形体之一,第二材料可以是碳的同素异形体之一,沟道层和源/漏层可以通过在第一和第二材料之间的共价键彼此连接。

著录项

  • 公开/公告号CN107017285A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-08-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN201611101627.1

  • 发明设计人 前田茂伸;徐承汉;成汝铉;

    申请日2016-12-02

  • 分类号H01L29/16(20060101);H01L29/24(20060101);H01L29/78(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人弋桂芬

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-06-19 02:58:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/16 申请日:20161202

    实质审查的生效

  • 2017-08-04

    公开

    公开

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